申请/专利权人：卡尔蔡司MultiSEM有限责任公司

申请日：2022-05-25

公开（公告）日：2024-04-16

公开（公告）号：CN117897793A

主分类号：H01J37/04

分类号：H01J37/04;H01J37/09;H01J37/12

优先权：["20210810 DE 102021208700.0"]

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.04.16#公开

摘要：提供一种用于多射束系统的多射束产生单元，其具有用于多个一次带电粒子小射束中的每一者的较大个别聚焦功率。该多射束产生单元包含主动端末多孔板。该端末多孔板可用于较大的聚焦范围，其用于多个一次带电粒子小射束中的每个小射束的个别消像散焦点调节。

主权项：1.一种用于多射束系统1的多射束产生单元305，包含：按入射一次带电粒子束309的传播方向的顺序，滤板304，其具有用于产生多个一次带电粒子小射束3的多个第一孔85.1，该滤板304在使用期间连接到接地电平；端末多孔板310，其包含多个端末孔94，所述端末孔包含第一多个可个别寻址电极79.2、81.2，在所述端末孔94的每一者的周边中配置有电极79.2、81.2；聚光透镜307，其具有聚光电极82、84与在使用期间传输所述多个一次带电粒子小射束3的单个孔；其中该聚光电极82、84配置为在使用期间产生穿过所述多个端末孔94中的每一者的多个静电微透镜场92；以及其中该多射束产生单元305还包含控制单元830，其配置成个别地控制该聚光电极82、84以及所述第一多个可个别寻址电极79.2、81.2中的每一者，以影响所述多个静电微透镜场92中的每一者的穿透深度和或形状，由此个别地调整在中间像表面321上的所述多个一次带电粒子小射束3中的每一者的横向和或轴向焦点位置，以预补偿该多射束系统1的场曲和或像面倾斜。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 卡尔蔡司MultiSEM有限责任公司 聚焦能力增加的多射束产生单元

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