申请/专利权人：创隆实业(深圳)有限公司

申请日：2024-02-28

公开（公告）日：2024-04-16

公开（公告）号：CN117888069A

主分类号：C23C14/35

分类号：C23C14/35;C23C14/50;C23C14/54

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.05.03#实质审查的生效;2024.04.16#公开

摘要：本发明公开了一种高功率脉冲溅射源离子磁控溅射装置，涉及磁控溅射技术领域，包括离子磁控溅射镀膜装置主体，所述离子磁控溅射镀膜装置主体的顶部安装有高功率脉冲溅射电源。本发明通过连接有高功率脉冲溅射电源，高功率脉冲溅射电源是一种高功率密度的脉冲等离子体电源，高功率脉冲溅射电源使用矩形波电压的脉冲电源代替传统的直流电源进行后续的磁控溅射沉积，极大地改善了薄膜沉积工艺，可以有效地抑制电弧的产生，消除由此产生的薄膜缺陷，同时能够提高溅射沉积速度，并降低沉积温度，通过金属离子高能轰击可以杜绝弧源大颗粒粒子带来的光泽度不良和附着不良的情况出现，使得薄膜具备高度细腻光泽表面，装饰效果优异。

主权项：1.一种高功率脉冲溅射源离子磁控溅射装置，包括离子磁控溅射镀膜装置主体1，其特征在于：所述离子磁控溅射镀膜装置主体1的顶部安装有高功率脉冲溅射电源5，所述离子磁控溅射镀膜装置主体1的顶部嵌入安装有溅射腔3，且溅射腔3位于高功率脉冲溅射电源5的一侧，所述溅射腔3的底壁安装有多组调控组件；调控组件包括安装在溅射腔3底壁的电推杆11，所述电推杆11的输出端安装有基台，所述基台的顶部安装有两组微型电动推杆10，所述微型电动推杆10的输出端安装有连接座，两组所述连接座的顶部通过轴件安装有极板9，所述极板9的顶部安装有磁铁8，所述磁铁8的顶部安装有三抓卡盘7，所述三抓卡盘7的顶部安装有靶材6，且靶材6与高功率脉冲溅射电源5电性连接。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 创隆实业(深圳)有限公司 一种高功率脉冲溅射源离子磁控溅射装置

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