申请/专利权人：应用材料公司

申请日：2020-04-28

公开（公告）日：2024-04-16

公开（公告）号：CN113811978B

主分类号：H01J37/32

分类号：H01J37/32

优先权：["20190501 US 16/400,923"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.16#授权;2022.01.04#实质审查的生效;2021.12.17#公开

摘要：本文描述的实施方式提供一种用于独立地控制在腔室的内部容积内的等离子体密度和气体分配的腔室的盖组件。所述盖组件包括等离子体生成系统和气体分配组件。所述等离子体生成系统包括多个介电板，所述介电板具有相对于真空压力取向的底表面和可操作以相对于大气压力取向的顶表面。一个或多个线圈定位在所述多个介电板上或上方。所述气体分配组件包括第一扩散器和第二扩散器。所述第一扩散器包括与所述第二扩散器的多个第二通道相交的多个第一通道。

主权项：1.一种用于盖组件的板，所述板包括：等离子体生成系统，所述等离子体生成系统包括平行地设置在所述板中的两个或更多个腔，所述两个或更多个腔中的每个腔包括：多个凹槽，所述多个凹槽中的每个凹槽具有多个介电板中的介电板，所述介电板设置在所述凹槽中，所述多个介电板中的每一者具有：底表面，所述底表面能够操作以相对于第一压力取向；和顶表面，所述顶表面能够操作以与所述底表面相对并且相对于第二压力取向，所述第二压力与所述第一压力不同；和一个或多个线圈，所述一个或多个线圈在相应腔中定位在所述多个介电板上或在所述多个介电板上方；和气体分配组件，所述气体分配组件包括：第一扩散器，所述第一扩散器包括：一个或多个第一扩散器入口，所述一个或多个第一扩散器入口设置在所述板中；和多个第一通道，所述多个第一通道与所述第一扩散器入口中的至少一个第一扩散器入口流体连通，所述多个第一通道中的每个第一通道设置在所述板中并且与所述多个凹槽中的至少一个凹槽相邻；和第二扩散器，所述第二扩散器包括：一个或多个第二扩散器入口，所述一个或多个第二扩散器入口设置在所述板中并且与多个第二通道流体连通，所述第二通道中的每一者与所述第一通道中的每一者相交；并且所述介电板中的每一者与相邻的第一通道相邻地设置并且与所述第二通道中的至少一个第二通道相邻地设置。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 应用材料公司 用于平板显示器的大面积高密度等离子体处理腔室

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