申请/专利权人：东京毅力科创株式会社

申请日：2020-03-12

公开（公告）日：2024-04-16

公开（公告）号：CN111725045B

主分类号：H01J37/32

分类号：H01J37/32;H01L21/67

优先权：["20190322 JP 2019-055024"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.16#授权;2022.01.07#实质审查的生效;2020.09.29#公开

摘要：本发明提供基片处理装置和载置台上是否存在聚焦环的检测方法。基片处理装置包括载置台、光源、聚焦调节部、受光部和控制部。载置台包括用于载置基片的第1载置面和包围第1载置面并用于载置聚焦环的第2载置面。聚焦调节部将来自光源的光聚焦到当聚焦环被载置于第2载置面上时的聚焦环的下表面位置。受光部接收来自聚焦环的下表面位置的光。控制部基于受光部接收到的光，检测第2载置面上是否存在聚焦环。本发明能够检测是否存在配置于载置台上的聚焦环。

主权项：1.一种基片处理装置，其特征在于，包括：载置台，其包括用于载置基片的第1载置面和包围该第1载置面并用于载置聚焦环的第2载置面；光源；聚焦调节部，其将来自所述光源的光聚焦到当所述聚焦环被载置于所述第2载置面上时的聚焦环的下表面位置；接收来自所述下表面位置的光的受光部；以及控制部，其基于所述受光部接收到的光，检测所述第2载置面上是否存在聚焦环。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 东京毅力科创株式会社 基片处理装置和载置台上是否存在聚焦环的检测方法

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