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【发明授权】圆形框架生成方法以及计算装置_三星SDS株式会社_202010597124.8 

申请/专利权人:三星SDS株式会社

申请日:2020-06-28

公开(公告)日:2024-04-16

公开(公告)号:CN112183807B

主分类号:G06Q10/047

分类号:G06Q10/047;G06F30/398;G06F115/12

优先权:["20190703 KR 10-2019-0079801"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.04.16#授权;2021.01.22#实质审查的生效;2021.01.05#公开

摘要:公开了一种圆形框架生成方法以及计算装置。根据一实施例的圆形框架生成方法包括如下步骤:识别包括多个层并且在相邻的层之间形成有一个以上的链接的多层结构的每个层所包括的多个路径连接要素;针对所述每个层生成嵌入式框架,嵌入式框架在其内部包括在所述每个层识别的多个路径连接要素;生成拓扑框架,拓扑框架包括围绕借由包括在所述嵌入式框架的多个路径连接要素中的所述一个以上的链接而形成的一个以上的穿孔的外部边界以及分别布置于所述一个以上的穿孔中的每个的外围线上的一个以上的局部路径点;以及合并所述一个以上的穿孔中的每个的外围线和所述外部边界,从而生成构成为一个圆形闭合曲线的圆形框架。

主权项:1.一种圆形框架生成方法,该圆形框架生成方法是在配备有一个以上的处理器以及存储有借由所述一个以上的处理器而执行的一个以上的程序的存储器的计算装置所执行的方法,包括如下步骤:识别包括多个层并且在相邻的层之间形成有一个以上的链接的多层结构的每个层所包括的多个路径连接要素;针对所述每个层生成嵌入式框架,所述嵌入式框架在其内部包括在所述每个层识别的多个路径连接要素;生成拓扑框架,所述拓扑框架包括围绕借由包括在所述嵌入式框架的多个路径连接要素中的所述一个以上的链接而形成的一个以上的穿孔的外部边界以及分别布置于所述一个以上的穿孔中的每个的外围线上的一个以上的局部路径点;以及合并所述一个以上的穿孔中的每个的外围线和所述外部边界,从而生成构成为一个圆形闭合曲线的圆形框架,其中,生成拓扑框架的步骤包括如下步骤:生成围绕所述一个以上的穿孔的所述外部边界;以及将所述一个以上的全局路径点投影至所述外部边界上。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 三星SDS株式会社 圆形框架生成方法以及计算装置

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