申请/专利权人：中国科学院微电子研究所

申请日：2020-12-31

公开（公告）日：2024-04-16

公开（公告）号：CN112731773B

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20;G03F9/00

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.16#授权;2021.05.21#实质审查的生效;2021.04.30#公开

摘要：本发明公开了一种电子束曝光机、调焦方法及装置，通过增设光学聚焦测试装置，将探测光照射到所述待曝光样品的当前曝光单元内，并采集所述当前曝光单元对应的反射光图像，然后基于当前曝光单元对应的反射光图像，得到当前曝光单元的位置信息，进而根据该位置信息调整当前曝光单元电子束曝光的焦点位置。这样能够有效地提高电子束曝光机的调焦准确性，有利于减小束斑尺寸，提高电子束曝光的分辨率。

主权项：1.一种电子束曝光机，其特征在于，包括：电子束发射装置，用于发出电子束对待曝光样品进行曝光，其中，所述待曝光样品包括一个或多个曝光单元；光学聚焦测试装置，用于将探测光照射到所述待曝光样品的当前曝光单元内，并采集所述当前曝光单元对应的反射光图像，所述反射光图像用于确定所述当前曝光单元的位置信息，以基于所述位置信息，调整所述电子束发射装置对所述当前曝光单元进行曝光的焦点位置；其中，曝光单元的位置信息包括曝光单元表面在高度方向即垂直于曝光单元表面方向的坐标；其中，基于所述位置信息，调整所述电子束发射装置对所述当前曝光单元进行曝光的焦点位置，包括：基于所述高度方向的坐标，调整电子束发射装置聚焦点的垂直方向上的位置，使得电子束能够聚焦在当前曝光单元表面。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中国科学院微电子研究所 一种电子束曝光机、调焦方法及装置

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