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【发明授权】一种合成高丰度硼10同位素的联硼酸酯的方法_中国科学院兰州化学物理研究所_202310676152.2 

申请/专利权人:中国科学院兰州化学物理研究所

申请日:2023-06-08

公开(公告)日:2024-04-16

公开(公告)号:CN116655674B

主分类号:C07F5/02

分类号:C07F5/02;C07B59/00

优先权:["20230116 CN 2023100560657"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.04.16#授权;2023.09.15#实质审查的生效;2023.08.29#公开

摘要:本发明涉及一种合成高丰度硼10同位素的联硼酸酯的方法,该方法包括以下步骤:⑴(N1,N2‑二甲基邻苯二胺基)氟硼烷的制备:N1,N2‑二甲基邻苯二胺、烃类溶剂A、高丰度硼10同位素三氟化硼溶液和碱进行反应,即得;⑵(N1,N2‑二甲基邻苯二胺基)氯硼烷的制备:(N1,N2‑二甲基邻苯二胺基)氟硼烷、烃类溶剂B和氯硅烷进行反应,即得;⑶偶联:烃类溶剂C、金属钠、(N1,N2‑二甲基邻苯二胺基)氯硼烷的烃类溶液进行反应后,经洗涤、干燥,即得含高丰度硼10同位素的N1,N2‑二甲基邻苯二胺联硼化合物;⑷酯化:烃类溶剂E、N1,N2‑二甲基邻苯二胺联硼化合物、二醇和氯化氢的烃类溶液进行反应后,经洗涤、干燥,即得高丰度硼10同位素的联硼酸酯。本发明反应条件温和,转化率高。

主权项:1.一种合成高丰度硼10同位素的联硼酸酯的方法,包括以下步骤:⑴(N1,N2-二甲基邻苯二胺基)氟硼烷的制备:在反应器A中加入N1,N2-二甲基邻苯二胺和烃类溶剂A,于0℃~25℃滴加高丰度硼10同位素三氟化硼溶液和碱,滴毕,于0℃~120℃反应至NMR检测反应结束;反应毕,向体系中加入烃类溶剂A,搅拌、离心,并将滤液真空干燥,即得(N1,N2-二甲基邻苯二胺基)氟硼烷;所述N1,N2-二甲基邻苯二胺与所述烃类溶剂A的比例为1g:1~15ml;所述N1,N2-二甲基邻苯二胺与所述高丰度硼10同位素三氟化硼溶液的摩尔比为1.0:1.0~10.0当量;所述N1,N2-二甲基邻苯二胺与所述碱的摩尔比为1.0:1.0~5.0当量;⑵(N1,N2-二甲基邻苯二胺基)氯硼烷的制备:在反应器B中加入所述(N1,N2-二甲基邻苯二胺基)氟硼烷和烃类溶剂B,于室温下滴加氯硅烷,滴毕,于0℃~120℃反应至NMR检测反应结束;反应结束后经真空浓缩,即得(N1,N2-二甲基邻苯二胺基)氯硼烷;所述(N1,N2-二甲基邻苯二胺基)氟硼烷与烃类溶剂B的比例为1g:1~15ml;所述(N1,N2-二甲基邻苯二胺基)氟硼烷与所述氯硅烷的摩尔比为1.0:0.5~5.0当量;⑶偶联:在反应器C中加入烃类溶剂C、金属钠,于0℃~120℃滴加(N1,N2-二甲基邻苯二胺基)氯硼烷的烃类溶液,滴毕,保持温度不变至NMR检测反应结束;反应毕,体系降温至20℃~50℃,经过滤、干燥滤液得到固体粗产物;所述固体粗产物于0℃~50℃下使用正己烷洗涤,再次过滤、干燥,即得含高丰度硼10同位素的N1,N2-二甲基邻苯二胺联硼化合物;所述烃类溶剂C的用量为每毫摩尔钠1~10毫升;所述(N1,N2-二甲基邻苯二胺基)氯硼烷的烃类溶液中(N1,N2-二甲基邻苯二胺基)氯硼烷与所述金属钠的摩尔比为1.0:1.0~6.0当量,(N1,N2-二甲基邻苯二胺基)氯硼烷与烃类溶剂的比例为1g:1~15ml;⑷酯化:在反应器D中加入烃类溶剂E、所述N1,N2-二甲基邻苯二胺联硼化合物,先于10℃~30℃加入二醇,再于-78℃~30℃滴加氯化氢的烃类溶液,滴毕,温度升至25℃~120℃,保持温度不变至NMR检测反应结束;反应结束后体系降温至15~25℃,经硅藻土过滤、浓缩至无馏分后得到固体;所述固体于0℃~50℃下使用正己烷洗涤,即得高丰度硼10同位素的联硼酸酯;所述N1,N2-二甲基邻苯二胺联硼化合物与所述烃类溶剂E的比例为1g:1~30ml;所述N1,N2-二甲基邻苯二胺联硼化合物与所述二醇的摩尔比为1.0:1.0~3.0当量;所述N1,N2-二甲基邻苯二胺联硼化合物与所述氯化氢的烃类溶液的摩尔比为1.0:1.0~15.0当量;所述N1,N2-二甲基邻苯二胺联硼化合物与所述正己烷的比例为1g:1~10ml。

全文数据:

权利要求:

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