申请/专利权人：潍坊市宇宏石油机械有限公司

申请日：2023-08-21

公开（公告）日：2024-04-16

公开（公告）号：CN220783453U

主分类号：B24B29/02

分类号：B24B29/02;B24B41/04;B24B41/06;B24B47/22

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.16#授权

摘要：本实用新型公开了一种TC轴承制备用抛光装置，包括固定底板，所述固定底板的正上方一侧设置有旋转抛光设备，固定底板的正上方另一侧设置有轴承放置块，轴承放置块的内部水平设置有旋转结构，旋转结构的两侧设置有水平位移机构，轴承放置块的外侧设置有移动定位机构，该抛光装置可以通过设置的可以水平移动的定位机构，根据抛光时不同规格尺寸的轴承来进行定位板位置的调整，在后续对轴承进行固定的时候，能够方便且快速的将轴承固定在抛光盘工作的指定位置，该抛光装置可以通过内部电机带动轴上的板块旋转挤压，能够根据不同规格的轴承，通过向两侧的挤压，来固定卡合住轴承内部预留的孔洞内壁，方便在抛光时固定住轴承，不易发生晃动的现象发生。

主权项：1.一种TC轴承制备用抛光装置，包括固定底板（1），其特征在于：所述固定底板（1）的正上方一侧设置有旋转抛光设备（2），固定底板（1）的正上方另一侧设置有轴承放置块（3），轴承放置块（3）的内部水平设置有旋转结构（4），旋转结构（4）的两侧设置有水平位移机构（5），轴承放置块（3）的外侧设置有移动定位机构（6）。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 潍坊市宇宏石油机械有限公司 一种TC轴承制备用抛光装置

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