申请/专利权人:成都瑞欧维科技有限公司
申请日:2023-09-27
公开(公告)日:2024-04-16
公开(公告)号:CN220783348U
主分类号:B24B19/00
分类号:B24B19/00;B24B27/033;B24B41/00;B24B47/04;B24B47/22
优先权:
专利状态码:有效-授权
法律状态:2024.04.16#授权
摘要:本实用新型涉及轨道维护领域,具体公开了一种轨道踏面清洁设备,包括机架、设于机架上用于打磨轨道踏面的抛光装置和设于机架上用于升降抛光装置的升降装置,所述升降装置的升降端与抛光装置连接,所述机架的底部设有轨道轮,所述机架上设有驱动轨道轮的驱动装置,所述驱动装置的输出端与轨道轮连接。该设备通过设置升降装置和驱动设备匀速行走的驱动装置,配合抛光装置一起使用,使设备具有打磨均匀、速度可调、精度可控等优势,提高了抛光效率。
主权项:1.一种轨道踏面清洁设备,其特征在于,包括机架1、设于机架1上用于打磨轨道踏面的抛光装置和设于机架1上用于升降抛光装置的升降装置,所述升降装置的升降端与抛光装置连接,所述机架1的底部设有轨道轮2,所述机架1上设有驱动轨道轮的驱动装置,所述驱动装置的输出端与轨道轮2连接。
全文数据:
权利要求:
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