申请/专利权人：杰米纳蒂奥公司

申请日：2022-08-25

公开（公告）日：2024-04-19

公开（公告）号：CN117916854A

主分类号：H01L21/027

分类号：H01L21/027;H01L21/308;G03F7/16;G03F7/004;G03F7/038;G03F7/039;G03F7/09;G03F7/32

优先权：["20210825 US 63/236,803","20210825 US 63/236,855"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.05.07#实质审查的生效;2024.04.19#公开

摘要：一种对基板进行图案化的方法包括在基板上提供第一浮雕图案，其中第一浮雕图案包括第一抗蚀剂，用溶解度转变剂涂布第一浮雕图案，在第一浮雕图案上沉积第二抗蚀剂，使得第二抗蚀剂与第一浮雕图案接触，以及使溶解度转变剂以预定距离扩散到第二抗蚀剂中，以提供第二抗蚀剂的溶解度转变区域。第二抗蚀剂的溶解度转变区域与第一浮雕图案接界。然后，该方法包括对第二抗蚀剂进行显影，使得溶解度转变区域被溶解，从而在第一浮雕图案和第二抗蚀剂之间提供间隙，在该间隙处，基板的一部分被暴露出，以及使用第一浮雕图案和第二抗蚀剂作为组合的蚀刻掩模对基板进行蚀刻。

主权项：1.一种对基板进行图案化的方法，包括：在基板上提供第一浮雕图案，其中所述第一浮雕图案包括第一抗蚀剂；用溶解度转变剂涂布所述第一浮雕图案；在所述第一浮雕图案上沉积第二抗蚀剂，使得所述第二抗蚀剂与所述第一浮雕图案接触；使所述溶解度转变剂以预定距离扩散到所述第二抗蚀剂中，以提供所述第二抗蚀剂的溶解度转变区域，其中所述第二抗蚀剂的所述溶解度转变区域与所述第一浮雕图案接界；对所述第二抗蚀剂进行显影，使得所述溶解度转变区域被溶解，以在所述第一浮雕图案和所述第二抗蚀剂之间提供间隙，在所述间隙处，所述基板的一部分被暴露出；以及使用所述第一浮雕图案和所述第二抗蚀剂作为组合的蚀刻掩模对所述基板进行蚀刻。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 杰米纳蒂奥公司 窄线切割掩模方法

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