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【发明公布】一种噻吩基并噻唑溴化物的合成方法_南京欧纳壹有机光电有限公司_202311788982.0 

申请/专利权人:南京欧纳壹有机光电有限公司

申请日:2023-12-22

公开(公告)日:2024-04-19

公开(公告)号:CN117903165A

主分类号:C07D513/04

分类号:C07D513/04

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.05.07#实质审查的生效;2024.04.19#公开

摘要:本发明涉及有机光电材料合成领域,具体涉及到一类噻吩基并噻唑溴化物的合成方法;其特征在于本发明中噻吩基并噻唑溴化物的合成,本发明中合成路径噻吩基化合物先与硝基噻吩类化合物进行偶联,然后还原成环生产噻吩基并噻唑化合物,最后进行溴化反应得到噻吩基并噻唑溴化物。

主权项:1.一种噻吩基并噻唑溴化物的合成方法,其特征在于,合成路线如下所示:当中X为H时,合成路线及结构如下: 当中X为卤素时,合成路线及结构如下: 其中,R为C6-C18的直链或带支链的烷基。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 南京欧纳壹有机光电有限公司 一种噻吩基并噻唑溴化物的合成方法

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