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【发明公布】一种高DOP的光敏聚酰亚胺光刻胶组合物及其应用_万华化学集团股份有限公司_202410050137.1 

申请/专利权人:万华化学集团股份有限公司

申请日:2024-01-15

公开(公告)日:2024-04-19

公开(公告)号:CN117908330A

主分类号:G03F7/004

分类号:G03F7/004

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.05.07#实质审查的生效;2024.04.19#公开

摘要:本发明公开了一种高DOP的光敏聚酰亚胺光刻胶组合物及其应用,所述光敏聚酰亚胺光刻胶包括聚酰胺酸树脂、重氮萘醌磺酸酯、热交联剂、表面活性剂、低收缩添加剂和溶剂。本发明的光敏聚酰亚胺光刻胶使用的低收缩添加剂一方面可以降低固化时光敏聚酰亚胺光刻胶膜的收缩,进而降低表面粗糙度,提高平整性;另一方面可以增加与聚酰亚胺的粘附性,降低弯折时的脱落,并且使光敏聚酰亚胺光刻胶膜有更小的弯折半径,从而增加在制作柔性屏的可靠性。

主权项:1.一种高DOP的光敏聚酰亚胺光刻胶组合物,其特征在于,包括聚酰胺酸树脂、重氮萘醌磺酸酯、热交联剂、低收缩添加剂、表面活性剂和溶剂。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 万华化学集团股份有限公司 一种高DOP的光敏聚酰亚胺光刻胶组合物及其应用

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