申请/专利权人：旭化成株式会社

申请日：2016-12-27

公开（公告）日：2024-04-19

公开（公告）号：CN112882342B

主分类号：G03F7/004

分类号：G03F7/004;G03F7/027;G03F7/09;H05K3/06

优先权：["20151228 JP 2015-257517","20161111 JP 2016-220688"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.19#授权;2021.06.18#实质审查的生效;2021.06.01#公开

摘要：本发明提供一种层压体。[课题]提供能够兼顾抗蚀材料对于基板的追随性和蚀刻工艺后的短路不良抑制性的感光性树脂组合物、以及在基底膜上具备感光性树脂组合物的层压体。[解决手段]层压体具备基底膜、以及设置在基底膜上的感光性树脂组成物的感光性层，感光性树脂组合物包含A碱溶性高分子、含烯属不饱和键的化合物、以及C光聚合引发剂，前述基底膜能够从感光性层剥离，且感光性树脂组合物满足下述数学式1所示的关系：WX‑DX≤5μm1。{式中，WX和DX如说明书中的定义所示}。

主权项：1.一种层压体，其特征在于，其具备基底膜、以及设置在所述基底膜上的包含感光性树脂组合物的感光性树脂层，所述感光性树脂组合物包含A碱溶性高分子、B含烯属不饱和键的化合物、C光聚合引发剂、D添加剂；以及E阻聚剂，所述基底膜能够从所述感光性树脂层剥离，且所述感光性树脂组合物满足下述数学式1所示的关系：WX-DX≤5μm1式1中，WX是指：将所述感光性树脂层在液体的存在下层压在具有100μm宽和5μm深的槽的基板上，然后通过曝光和显影而得到的抗蚀图案中，以相对于200μm宽的抗蚀线宽的最小间距宽度的形式规定的单位为μm的分辨率，且DX是指：在不存在液体下将所述感光性树脂层层压在所述基板上，然后通过曝光和显影而得到的抗蚀图案中，以相对于200μm宽的抗蚀线宽的最小间距宽度的形式规定的单位为μm的分辨率，所述D添加剂包含不含羧基而含氨基的苯并三唑化合物，所述E阻聚剂包含环氧化合物，作为所述B含烯属不饱和键的化合物，包含下述通式II所示的氧化烯烃改性双酚A型二甲基丙烯酸酯化合物， 式II中，R3和R4各自独立地表示氢原子或甲基；A为C2H4；B为C3H6；n1、n2、n3和n4是满足n1+n2+n3+n4＝2～50的关系的整数；-A-O-和-B-O-的重复单元的排列任选为无规或嵌段，在嵌段的情况下，-A-O-与-B-O-任选在联苯基侧，其中，所述B含烯属不饱和键的化合物之中的40质量％以上为通式II所示的氧化烯烃改性双酚A型二甲基丙烯酸酯化合物，但不包括所述B含烯属不饱和键的化合物之中的100质量％为所述通式II所示的氧化烯烃改性双酚A型二甲基丙烯酸酯化合物的情形。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 旭化成株式会社 层压体

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