申请/专利权人：中国原子能科学研究院

申请日：2024-03-05

公开（公告）日：2024-04-26

公开（公告）号：CN117939771A

主分类号：H05H13/00

分类号：H05H13/00;H05H7/00

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.05.14#实质审查的生效;2024.04.26#公开

摘要：本发明公开了一种基于动态回旋加速器中心区结构的束流调试方法，包括：通过理论计算得到4个狭缝流强最大时束流夹缝的理论位置；使用内靶测量，安装第一中心区结构，确保束流已注入到加速器中；安装第二中心区结构，初步确定离子源注入系统参数的大致范围；安装第三中心区结构，初步确定第一高频腔体的参数范围，并更精确地确定离子源注入系统的参数，安装第四中心区结构，精确地确定第一高频腔体的参数、以及精确地确定离子源注入系统的参数；安装第五中心区结构，确定第二高频腔体的参数。本发明采用动态中心区结构进行束流调试，解决了由于中心区空间结构紧凑，导致一直以来本领域技术人员无法进行中心区束流调试的难题。

主权项：1.一种基于动态回旋加速器中心区结构的束流调试方法，该动态中心区结构是在基础中心区结构的基础上，按照调试步骤动态安装各个中心区电极柱、以及动态安装各个束流狭缝；该基础中心区结构和动态安装的各个中心区电极柱、以及动态安装的各个束流狭缝，共同组成了中心区束流调试的第一中心区结构、第二中心区结构、第三中心区结构、第四中心区结构、第五中心区结构；所述第一中心区结构用于调整离子源注入系统参数、并确保束流已注入到回旋加速器中；所述第二中心区结构用于调整离子源注入系统参数、并确定离子源注入系统参数的大致范围；所述第三中心区结构用于初步确定高频腔体的参数范围、并更精确地确定离子源注入系统的参数；所述第四中心区结构用于精确地确定第一高频腔体的参数、以及精确确定离子源注入系统的参数；所述第五中心区结构用于确定第二高频腔体的参数。其特征在于：该中心区束流调试方法包括以下步骤：步骤一、通过理论计算得到4个狭缝从小半径处到大半径处的束流分布，分别确定4个狭缝流强最大时束流夹缝的理论位置；步骤二、安装第一中心区结构，使用内靶测量，确保束流已注入到加速器中；步骤三、安装第二中心区结构，使用内靶测量，通过调整离子源注入系统的参数使流强最大位置的测量值和第一束流狭缝在该处对应的理论值基本相符，从而初步确定离子源注入系统参数的大致范围；步骤四、安装第三中心区结构，使用内靶测量，调整离子源注入系统参数和第一高频腔体的参数使流强最大的位置的测量值和第二束流狭缝在该处对应的理论值基本相符，初步确定第一高频腔体的参数范围，并更精确地确定离子源注入系统的参数。步骤五、安装第四中心区结构，使用内靶测量，调整第一高频腔体的参数使流强最大的位置的测量值和第三束流狭缝在该处对应的理论值基本相符，精确地确定第一高频腔体的参数、以及精确地确定离子源注入系统的参数；步骤六、安装第五中心区结构，使用内靶4测量，调整第二高频腔体的参数使流强最大的位置和第三束流狭缝在该处对应的理论值基本相符，确定第二高频腔体的参数。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中国原子能科学研究院 一种基于动态回旋加速器中心区结构的束流调试方法

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