申请/专利权人：日立高新技术分析科学有限责任公司

申请日：2023-10-25

公开（公告）日：2024-04-26

公开（公告）号：CN117939765A

主分类号：H05H1/24

分类号：H05H1/24;G01N21/73;H01J49/18;H01J49/06

优先权：["20221025 EP 22203570.1"]

专利状态码：在审-公开

法律状态：2024.04.26#公开

摘要：根据示例，提供了一种用于OES仪器100的火花架组件120，该火花架组件120包括：至少部分限定等离子体室125，125a，125b，125c的火花架本体121；至少部分设置在等离子体室125，125a，125b，125c内部的激励器123，123a；以及用于提供对在等离子体室125，125a，125b，125c中生成的等离子体的视图的来自等离子体室125，125a，125b，125c的光学传输路径128，128a，其中等离子体室125，125a，125b，125c设置有开口131，131a用于暴露定位于开口131，131a上的样品140的一部分以用于来自激励器123，123a的激励，以在激励器123，123a的激活时在样品140的表面上生成等离子体，并且其中包括摩擦学涂料的涂层127被布置为覆盖等离子体室125，125a，125b，125c的表面的至少一部分。

主权项：1.一种用于光学发射光谱OES仪器100的火花架组件120，所述火花架组件120包括：火花架本体121，所述火花架本体121中至少部分限定等离子体室125，125a，125b，125c；激励器123，123a，至少部分设置在所述等离子体室125，125a，125b，125c内部；以及光学传输路径128，128a，来自所述等离子体室125，125a，125b，125c，用于提供对在所述等离子体室125，125a，125b，125c中生成的等离子体的视图，其中所述等离子体室125，125a，125b，125c设置有开口131，131a，所述开口131，131a用于暴露定位于所述开口131，131a上的样品140的一部分以用于来自所述激励器123，123a的激励，以在所述激励器123，123a的激活时在所述样品140的表面上生成等离子体，并且其中包括摩擦学涂料的涂层127被布置为覆盖所述等离子体室125，125a，125b，125c的表面的至少一部分。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 日立高新技术分析科学有限责任公司 用于光学发射光谱仪器的等离子体室

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