申请/专利权人：华太极光光电技术有限公司

申请日：2022-02-23

公开（公告）日：2024-04-26

公开（公告）号：CN114545585B

主分类号：G02B7/18

分类号：G02B7/18;G02B7/182;G02B27/00;G01N21/552

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.26#授权;2022.06.14#实质审查的生效;2022.05.27#公开

摘要：本发明公开了一种确定抛物面镜与硅棱镜之间的位置的方法，包括：步骤一、选取参数已知的硅棱镜；步骤二、根据已知参数以及光路入射类型进行计算，得出能够表征抛物面镜与硅棱镜之间的位置的数值，即位置数值；位置数值包括AB,AB表示太赫兹波在硅棱镜上的入射点A到第一平面的距离，点B为垂足点，点B在第一平面上，光路入射类型为平行、聚焦或者平行聚焦中的其中一种。该方法通过设计好硅棱镜所使用的场景例如光路入射类型，并选取参数已知的硅棱镜，根据已知参数以及光路入射类型计算得出能够表征抛物面镜与硅棱镜之间的位置的数值AB，然后可以根据该数据设计太赫兹探测系统。

主权项：1.一种确定抛物面镜与硅棱镜之间的位置的方法，应用于太赫兹探测系统，所述太赫兹探测系统包括一硅棱镜、一太赫兹发射天线、一太赫兹接收天线以及至少两个抛物面镜，其特征在于，其中，所述硅棱镜为梯形结构，包括放置样品的第一平面、与所述第一平面相平行的第二平面，连接所述第一平面与所述第二平面的两个平行侧面以及两个倾斜侧面，其中两个所述倾斜侧面相正对，所述第一平面的长度大于所述第二平面的长度，所述第一平面、所述第二平面与两个所述倾斜侧面围成梯形；所述方法包括以下步骤：步骤一、选取参数已知的所述硅棱镜；步骤二、根据已知参数以及光路入射类型进行计算，得出能够表征所述抛物面镜与所述硅棱镜之间的位置的数值，即位置数值；所述位置数值包括AB,AB表示太赫兹波在所述硅棱镜上的入射点A到所述第一平面的距离，点B为垂足点，所述点B在所述第一平面上，所述光路入射类型为平行、聚焦或者平行聚焦中的其中一种；其中，所述光路入射类型为平行时，根据第一公式和第二公式进行计算，所述第一公式为： 所述第二公式为： AC表示所述入射点A到所述第一平面的反射点C之间的距离，d表示所述第一平面的长度的一半，m表示倒角的边长，μ1表示所述第一平面与所述倾斜侧面之间的夹角，μ3表示射入所述硅棱镜内的入射光线与所述倾斜侧面的垂线之间的夹角，μ4表示AC与所述第一平面的垂线之间的夹角；所述位置数值还包括DE,DE表示所述第一平面的边缘点D到所述抛物面镜的中心点O的水平距离，点E为所述抛物面镜的中心点O在所述第一平面上的投影；所述光路入射类型为平行聚焦时，根据第三公式、第四公式和第五公式进行计算，所述第三公式为： 所述第四公式为： 所述第五公式为： AC表示所述入射点A到所述第一平面的反射点C之间的距离，d表示所述第一平面的长度的一半，m表示倒角的边长，且m≥0，μ1表示所述第一平面与所述倾斜侧面之间的夹角，μ3表示射入所述硅棱镜内的入射光线与所述倾斜侧面的垂线之间的夹角，μ4表示AC与所述第一平面的垂线之间的夹角,F表示所述抛物面镜的焦距，n表示所述硅棱镜的折射率；所述光路入射类型为聚焦时，根据第六公式、第七公式、第八公式和第九公式进行计算，所述第六公式为：AC＝d+msinμ1；所述第七公式为： 所述第八公式为： 所述第九公式为： AC表示所述入射点A到所述第一平面的所述反射点C之间的距离，d表示所述第一平面的长度的一半，m表示倒角的边长，且m≥0，μ1表示所述第一平面与所述倾斜侧面之间的夹角，F表示所述抛物面镜的焦距，n表示所述硅棱镜的折射率，OC表示所述抛物面镜的中心点O到所述反射点C处的距离，CD表示所述第一平面的中点到所述第一平面的边缘点D的长度，即d。

全文数据：

权利要求：

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