申请/专利权人:日本特殊陶业株式会社
申请日:2020-06-01
公开(公告)日:2024-04-26
公开(公告)号:CN113287372B
主分类号:H05H1/26
分类号:H05H1/26;A61B18/04
优先权:["20190604 JP 2019-104428"]
专利状态码:有效-授权
法律状态:2024.04.26#授权;2021.09.07#实质审查的生效;2021.08.20#公开
摘要:等离子照射装置20、320、420、520、620、720、820具备气体引导路径30和沿面放电部40、340、440、540、640、740、840。沿面放电部40、340、440、540、640、740、840的放电电极和接地电极的一方直接或者经由其他构件而面向流路36,并与周期性变化的电压施加于放电电极相应地在流路36内产生沿面放电。并且,接地电极的至少一部分配置于比放电电极靠放出口34侧处。
主权项:1.一种等离子照射装置,具备:气体引导路径,具有导入气体的导入口、放出气体的放出口及设置于所述导入口与所述放出口之间的流路,所述气体引导路径使从所述导入口侧导入的气体通过所述流路内的空间而流向所述放出口;及沿面放电部,具有介电层和夹设有所述介电层并相互相对配置的放电电极以及接地电极,所述放电电极和所述接地电极的一方直接或者经由其他构件而面向所述流路,并与周期性变化的电压施加于所述放电电极相应地在所述流路内产生沿面放电,其中,所述接地电极的至少一部分配置于比所述放电电极靠所述放出口侧处,所述接地电极的所述导入口侧的端部位于所述放电电极的所述放出口侧的端部与所述放电电极的所述导入口侧的端部之间。
全文数据:
权利要求:
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