申请/专利权人：昂图创新有限公司

申请日：2022-07-18

公开（公告）日：2024-04-30

公开（公告）号：CN117957436A

主分类号：G01N21/88

分类号：G01N21/88;G01N21/95;G06N20/00;G06T7/00;H01L21/66

优先权：["20210719 US 63/223,121"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.05.17#实质审查的生效;2024.04.30#公开

摘要：本文公开了用于在制造过程期间检查半导体器件诸如CMOS图像传感器的缺陷检测技术的示例。缺陷可以包括常见缺陷，诸如划痕、污垢等，以及低对比度缺陷，诸如水印。该检测技术可以使用监督式机器学习网络。

主权项：1.一种检测半导体器件中的缺陷的方法，所述方法包括：生成所述半导体器件的图像的多个二值切片；基于所述图像的统计对比度特性将所述多个二值切片中的每个二值切片分割成段；将所述段的子集输入到机器学习网络中，其中所述段的所述子集包括与所述子集中未包括的其他段相比具有更高对比度分布的段；以及接收识别所述图像中至少一个缺陷的存在或不存在的所述机器学习网络的输出。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 昂图创新有限公司 低对比度非参考缺陷检测

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