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【发明公布】用于版图的多重图形化方法、电子设备及存储介质_全芯智造技术有限公司_202410341220.4 

申请/专利权人:全芯智造技术有限公司

申请日:2024-03-25

公开(公告)日:2024-04-30

公开(公告)号:CN117952064A

主分类号:G06F30/392

分类号:G06F30/392;G06F30/398

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.05.17#实质审查的生效;2024.04.30#公开

摘要:本公开的示例实施例涉及用于版图的多重图形化方法、电子设备及存储介质。用于版图的多重图形化方法包括:对版图进行光学邻近校正,以生成校正版图;基于工艺窗口对校正版图进行分析,以确定校正版图中存在校正错误的第一位置;对校正版图进行多重图形化设计规则检查,以确定违反多重图形化设计规则的第二位置;基于第一位置与第二位置的比较而确定拆分关系,其中拆分关系指示第二位置中与第一位置不重合的第三位置处的邻近图形无需拆分;以及基于拆分关系对校正版图进行拆分。本公开的实施例能够提高版图修正效率,缩短产品开发周期。

主权项:1.一种用于版图的多重图形化方法,包括:对版图进行光学邻近校正,以生成校正版图;基于工艺窗口对所述校正版图进行分析,以确定所述校正版图中存在校正错误的第一位置;对所述校正版图进行多重图形化设计规则检查,以确定违反所述多重图形化设计规则的第二位置;基于所述第一位置与所述第二位置的比较而确定拆分关系,其中所述拆分关系指示所述第二位置中与所述第一位置不重合的第三位置处的邻近图形无需拆分;以及基于所述拆分关系对所述校正版图进行拆分。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 全芯智造技术有限公司 用于版图的多重图形化方法、电子设备及存储介质

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