申请/专利权人：之江实验室

申请日：2024-03-27

公开（公告）日：2024-04-30

公开（公告）号：CN117950283A

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.05.17#实质审查的生效;2024.04.30#公开

摘要：本发明公开了一种基于千束焦斑独立调控的超分辨灰度刻写装置及方法，包括：激发光、抑制光均为先通过扩束器、光束整形器进行扩束和光斑匀化，再通过反射镜反射到数字微镜阵列上；激发光和抑制光从数字微镜阵列法线出射并合束，合束后的双光束通过两个透镜组成的1：1成像系统入射微透镜阵列，使数字微镜阵列上的光场成像到微透镜阵列表面，并在微透镜阵列焦面产生千束边缘光抑制光斑阵列，该光斑阵列通过透镜和物镜组成的成像系统，成像在位移台上样品内的物镜焦面进行刻写。本发明通过产生千束边缘光抑制直写阵列，可大幅度提升刻写通量和精度，且各边缘光抑制光斑可精准独立调谐，具有高精度调谐灰度刻写的功能。

主权项：1.一种基于千束焦斑独立调控的超分辨灰度刻写装置，其特征在于，包括激发光光源（1）、第一扩束器（2）、第一光束整形器（3）、第一反射镜（4）、抑制光光源（5）、第二扩束器（6）、第二光束整形器（7）、第二反射镜（8）、数字微镜阵列（9）、第一透镜（10）、第二透镜（11）、微透镜阵列（12）、第三透镜（13）、物镜（14）和位移台（15）；所述激发光光源（1）产生入射的激发光，激发光先通过第一扩束器（2）进行扩束，经过第一光束整形器（3）进行光斑匀化，再通过第一反射镜（4）将激发光反射到数字微镜阵列（9）上；所述抑制光光源（5）产生入射的抑制光，抑制光先通过第二扩束器（6）进行扩束，经过第二光束整形器（7）进行光斑匀化，再通过第二反射镜（8）将抑制光反射到数字微镜阵列（9）上；所述激发光和抑制光从数字微镜阵列（9）的法线出射并进行合束，合束后的双光束通过第一透镜（10）和第二透镜（11）组成的1：1成像系统入射微透镜阵列（12），使数字微镜阵列（9）上的光场成像到微透镜阵列（12）表面，并在微透镜阵列（12）焦面产生千束边缘光抑制光斑阵列，该光斑阵列通过第三透镜（13）和物镜（14）组成的成像系统，成像在位移台（15）上样品内的物镜（14）焦面，实现对位移台（15）所承载样品的刻写。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 之江实验室 基于千束焦斑独立调控的超分辨灰度刻写装置及方法

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