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【发明公布】一种低共熔溶剂及其制备方法和应用_北京理工大学重庆创新中心_202410034798.5 

申请/专利权人:北京理工大学重庆创新中心

申请日:2024-01-10

公开(公告)日:2024-04-30

公开(公告)号:CN117942333A

主分类号:A61K31/37

分类号:A61K31/37;A61K31/05;A61K9/06;A61K47/24;A61K47/44;A61K47/10;A61K47/36;A61K47/32;A61K47/14;A61K47/26;A61P17/00;A61P31/04;A61P31/10;A61K8/34;A61K8/49;A61Q17/00

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.05.17#实质审查的生效;2024.04.30#公开

摘要:本发明属于低共熔溶剂技术领域,具体涉及一种低共熔溶剂及其制备方法和应用,低共熔溶剂包括羟基酪醇和蛇床子素,羟基酪醇和蛇床子素的摩尔比为1‑9:9‑1,低共熔溶剂的制备方法包括以下步骤:1洗净反应器,经干燥处理,打开搅拌以及加热,加热温度在50‑70℃,通入惰性气体保护;2按比例加入羟基酪醇和蛇床子素,待熔化后保持搅拌与惰性气体保护,继续保温1‑2小时制得低共熔溶剂,将本低共熔溶剂经过超分子微囊制备后得到超分子微囊抑菌软膏,抑菌软膏应用在皮肤抑菌的药物或日化品,促进羟基酪醇皮肤渗透,降低刺激性。

主权项:1.一种低共熔溶剂,其特征在于,包括羟基酪醇和蛇床子素,羟基酪醇和蛇床子素的摩尔比为1-9:9-1。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 北京理工大学重庆创新中心 一种低共熔溶剂及其制备方法和应用

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