申请/专利权人：ASML荷兰有限公司

申请日：2019-11-19

公开（公告）日：2024-04-30

公开（公告）号：CN113196177B

主分类号：G03F7/20

分类号：G03F7/20;G02B6/42;G02B27/09;G03F9/00

优先权：["20181220 EP 18214547.4"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.04.30#授权;2021.08.17#实质审查的生效;2021.07.30#公开

摘要：公开了一种用于将非相干辐射传递至量测传感器系统的照射系统。还公开了相关联的量测系统和方法。所述照射系统包括用于对位于所述量测传感器系统的模块壳体外部的所述非相干辐射的束进行选择性空间滤波的空间滤波系统。提供至少一个光导，该至少一个光导用于将被空间滤波后的非相干辐射的束引导至所述量测传感器系统，所述至少一个光导使得所引导的辐射具有与入射角大致类似的出射角。

主权项：1.一种用于将非相干辐射传递至量测传感器系统的照射系统，所述照射系统包括：空间滤波系统，所述空间滤波系统用于对所述非相干辐射的束进行选择性空间滤波；和至少一个光导，所述至少一个光导用于将被空间滤波后的非相干辐射的束引导至所述量测传感器系统，所述至少一个光导使得所引导的辐射具有与入射角大致类似的出射角，其中，所述量测传感器系统是能操作的以从所述非相干辐射产生测量照射，所述测量照射的照射斑直径依赖于由所述空间滤波系统进行的所述选择性空间滤波。

全文数据：

权利要求：

百度查询： ASML荷兰有限公司 量测传感器、照射系统、和产生具有能够配置的照射斑直径的测量照射的方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD