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申请/专利权人：中国科学院化学研究所
申请日：2022-11-10
公开（公告）日：2024-05-17
公开（公告）号：CN118047739A
主分类号：C07D301/28
分类号：C07D301/28;C07D303/30;C07C41/30;C07C43/23;C07F5/02;C07C43/205;C07C37/055;C07C39/15;G03F7/004;G03F7/038
优先权：
专利状态码：在审-实质审查的生效
法律状态：2024.06.04#实质审查的生效;2024.05.17#公开
摘要：本发明属于光刻胶技术领域，具体涉及稠环芳香烃衍生物的化学放大负性光刻胶及其制备方法和应用。所述光刻胶中基体成分为通式I所示的稠环芳香烃衍生物，可以在光刻胶常用的有机溶剂中溶解。本发明的光刻胶组合物可以制备得到均匀的薄膜，在制膜过程中，作为基体成分的分子玻璃不析出。由本发明的光刻胶组合物制备的薄膜具有良好的分辨率、光敏性、粘附性，且易于保存。
主权项：1.式Ⅰ所示的化合物： 其中，所述A选自稠环芳香烃；Ra、Rb、Rc、Rd相同或不同，彼此独立地选自H或条件是Ra、Rb、Rc、Rd中的至少一个为每个R相同或不同，彼此独立地选自H、-OC1-20烷基或OR1，条件是至少有一个R为OR1、或H；R1选自无取代或任选被一个、两个或更多个R11取代的下列基团：C2-20烯基、3-20元环氧基；每个R11相同或不同，彼此独立地选自氧代＝O、无取代或任选被一个、两个或更多个R12取代的下列基团：C1-20烷基、C1-20烷氧基、C2-20烯基、3-20元杂环基、C6-20芳基；每个R12相同或不同，彼此独立地选自C1-20烷基、C2-20烯基、C1-20烷氧基、C6-20芳基。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 中国科学院化学研究所 稠环芳香烃衍生物及其制备方法和在光刻中的应用
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