申请/专利权人:重庆云潼科技有限公司
申请日:2023-03-02
公开(公告)日:2024-05-17
公开(公告)号:CN118048605A
主分类号:C23C14/04
分类号:C23C14/04;C23C14/35;C23C14/50;C23C14/16;H01L21/607
优先权:
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2024.06.04#实质审查的生效;2024.05.17#公开
摘要:本发明涉及半导体器件封装技术领域,尤其涉及一种半导体器件镀铜工装及铜线键合工艺,半导体器件镀铜工装包括DBC固定工装和镀铜掩膜工装,所述DBC固定工装和镀铜掩膜工装通过定位销组装固定在一起,所述镀铜掩膜工装对应芯片铜线键合的位置开设有掩膜孔;铜线键合工艺包括以下步骤:将焊接了芯片的DBC板放置在DBC固定工装上,通过定位销将镀铜掩膜工装组装在DBC固定工装上,随后置于镀膜机中镀铜,通过磁控溅射镀膜工艺在芯片铜线键合位置镀上铜镀膜,最后通过键合机在所述铜镀膜上进行铜线键合。本发明用于解决现有铜线键合工艺存在的焊层下面的氧化物电介质层易损伤,进而造成对芯片的损伤和破坏导致芯片失效的问题。
主权项:1.一种半导体器件镀铜工装,其特征在于,包括DBC固定工装和镀铜掩膜工装,所述DBC固定工装和镀铜掩膜工装通过定位销组装固定在一起,所述镀铜掩膜工装对应芯片铜线键合的位置开设有掩膜孔。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 重庆云潼科技有限公司 一种半导体器件镀铜工装及铜线键合工艺
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