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申请/专利权人：株式会社阿迪泰克工程
申请日：2020-05-08
公开（公告）日：2024-05-17
公开（公告）号：CN111913363B
主分类号：G03F7/20
分类号：G03F7/20
优先权：["20190509 JP 2019-089185"]
专利状态码：有效-授权
法律状态：2024.05.17#授权;2022.03.11#实质审查的生效;2020.11.10#公开
摘要：提供能够将各种尺寸的基板充分地真空吸附于工作台并且进行曝光的实用的直描式曝光装置。在形成有大量真空吸附孔21的工作台2载放基板S并真空吸附，在使曝光图案的光工作台2通过搬运系统3而移动并在曝光区域中通过时，通过曝光单元1照射曝光图案的光而曝光。与最大尺寸的基板S对应地形成有大量的真空吸附孔21，薄板71堵塞基板S未堵塞的真空吸附孔21。薄板71具有吸附孔73或者开口75、76，通过将薄板机构72定位而成为不对基板S的真空吸附进行阻碍的状态。薄板71以及薄板机构72安装于工作台2，并与工作台2一体地移动。
主权项：1.一种直描式曝光装置，能够对于尺寸不同的各基板无掩膜地照射规定图案的光而进行曝光，其特征在于，具备：曝光头，将规定图案的光照射于曝光区域；工作台，形成有大量对所载放的基板进行真空吸附的真空吸附孔；搬运系统，使载放了基板的工作台在曝光区域中通过地移动；排气系统，对真空吸附孔进行真空吸引而将基板真空吸附于工作台；以及吸附孔密封构件，将上述大量吸附孔中未被基板堵塞的真空吸附孔堵塞，吸附孔密封构件包括：卷绕为辊状的长条的薄板；以及进行薄板的送出以及卷绕的薄板机构，薄板机构是使薄板成为不阻碍基板的真空吸附的状态的机构，薄板以及薄板机构相对于工作台被安装为，通过搬运系统而与工作台一体移动，在上述薄板上，以不阻碍上述基板的真空吸附的方式，形成有与上述基板所堵塞的真空吸附孔重叠的吸附孔或者与上述基板的尺寸相对应的开口，在上述薄板上形成有由多个上述吸附孔构成且整体的配置区域的尺寸不同的多个孔组或者与上述基板的不同尺寸相对应的不同尺寸的多个开口，多个孔组或者多个开口沿着上述薄板的长度方向形成，设置有控制部，在与基板的尺寸相匹配地选择了多个孔组中的一个或者多个开口中的一个时，该控制部对上述薄板机构进行控制，以使该选择的孔组或者选择的开口相对于上述工作台位于规定位置。
全文数据：
权利要求：
百度查询： 株式会社阿迪泰克工程 直描式曝光装置
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