申请/专利权人：上海玺唐半导体科技有限公司

申请日：2019-12-11

公开（公告）日：2020-03-31

公开（公告）号：CN110935688A

主分类号：B08B3/12(20060101)

分类号：B08B3/12(20060101);B08B3/08(20060101);B08B9/093(20060101);B08B9/08(20060101)

优先权：

专利状态码：失效-发明专利申请公布后的驳回

法律状态：2022.05.27#发明专利申请公布后的驳回;2020.04.24#实质审查的生效;2020.03.31#公开

摘要：本发明涉及反应釜清洗技术领域，特别涉及一种清洗方法，包括向所述反应釜腔室注入清洗水，控制所述超声波清洗器向清洗水介质中发射超声波对所述反应釜腔室内壁上的残留物进行一次清洗；当所述一次清洗完成后，向所述反应釜腔室注入反应溶液，所述反应溶液用于与部分所述残留物发生反应以产生溶解物；控制所述超声波清洗器向所述反应溶液介质中发射超声波对所述溶解物进行二次清洗；当所述二次清洗完成后，向所述反应釜腔室内再次注入所述清洗水并控制所述超声波清洗器发射超声波对所述反应釜腔室内残留的反应溶液进行三次清洗。通过将超声波清洗技术应用到对反应釜的三次清洗过程中，可以在不挪动反应釜的情况下，实现对反应釜的高效清洗工作。

主权项：1.一种清洗方法，其特征在于，应用于用于清洗反应釜的清洗装置，所述清洗装置包括超声波清洗器，所述超声波清洗器位于所述反应釜腔室内，所述方法包括：向所述反应釜腔室注入清洗水，并控制所述超声波清洗器向清洗水介质中发射超声波对所述反应釜腔室内壁上的残留物进行一次清洗；当所述一次清洗完成后，向所述反应釜腔室注入反应溶液，所述反应溶液用于与部分所述残留物发生反应以产生溶解物；控制所述超声波清洗器向所述反应溶液介质中发射超声波对所述溶解物进行二次清洗；当所述二次清洗完成后，向所述反应釜腔室内再次注入所述清洗水并控制所述超声波清洗器向清洗水介质中发射超声波对所述反应釜腔室内残留的反应溶液进行三次清洗。

全文数据：

权利要求：

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