申请/专利权人：武汉精立电子技术有限公司;武汉精测电子集团股份有限公司

申请日：2019-12-19

公开（公告）日：2020-05-22

公开（公告）号：CN110728681B

主分类号：G06T7/00(20170101)

分类号：G06T7/00(20170101);G06T5/20(20060101);G06T5/10(20060101);G06T3/40(20060101)

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2020.05.22#授权;2020.02.25#实质审查的生效;2020.01.24#公开

摘要：本发明公开了一种Mura缺陷检测方法及装置。该方法包括对训练样本图像执行多种不同的图像增强处理，获得训练样本图像对应的多个训练样本增强图像；将所述训练样本增强图像输入到卷积神经网络模型进行训练，输出分类模型；对待检测的测试样本图像执行与训练样本图像相同的多种图像增强处理，获得多个测试样本增强图像；将所述测试样本增强图像输入到所述分类模型，输出缺陷检测结果。本发明以同时对多种Mura缺陷进行有效的检测。

主权项：1.一种Mura缺陷检测方法，其特征在于，包括：对训练样本图像执行多种不同的图像增强处理，多种所述图像增强处理中至少存在一种图像增强处理能够对训练样本图像进行有效的图像增强，获得训练样本图像对应的多个训练样本增强图像；将所述训练样本增强图像输入到卷积神经网络进行训练，输出分类模型；对待检测的测试样本图像执行与训练样本图像相同的多种图像增强处理，获得多个测试样本增强图像；将所述测试样本增强图像输入到所述分类模型，输出缺陷检测结果;其中，所述多种不同的图像增强处理包括：对图像利用不同的方式进行图像缩放，获得缩放后的图像；对所述缩放后的图像进行傅里叶变换后，进行滤波，获得滤波图像；对所述滤波图像进行傅里叶逆变换后，进行灰度线性增强处理，输出增强后的图像。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 武汉精立电子技术有限公司;武汉精测电子集团股份有限公司 一种Mura缺陷检测方法及装置

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