申请/专利权人：中国科学院长春光学精密机械与物理研究所

申请日：2018-12-26

公开（公告）日：2020-07-03

公开（公告）号：CN111366253A

主分类号：G01J5/52(20060101)

分类号：G01J5/52(20060101)

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2021.09.17#授权;2020.07.28#实质审查的生效;2020.07.03#公开

摘要：本发明公开了一种红外光电系统的非均匀性校正系数获取方法及校正方法。所述方法包括如下步骤：S1、在所述红外光电系统的温度稳定在第一温度时，对黑体辐射源和所述红外光电系统的自带辐射源分别采集图像，进行两点校正，计算各像元的两点校正系数；S2、将所述自带辐射源放置在所述红外光电系统的光学系统光路中间采集图像，进行单点校正，计算各像元的单点校正系数；S3、根据校正系数进行校正，输出校正后的响应值。采用上述方法获得校正系数进行非均匀性校正能够解决两点校正与单点校正的辐射源位于系统光路不同位置时，单点校正引入非均匀性的问题，增大了校正动态范围，改善了红外光电系统焦平面的非均匀性。

主权项：1.一种红外光电系统的非均匀性校正系数获取方法，其特征在于，包括如下步骤：S1、在所述红外光电系统的温度稳定在第一温度时，对黑体辐射源和所述红外光电系统的自带辐射源分别采集图像，进行两点校正，计算各像元的两点校正系数；S2、将所述自带辐射源放置在所述红外光电系统的光学系统光路中间采集图像，进行单点校正，计算各像元的单点校正系数。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 红外光电系统的非均匀性校正系数获取方法及校正方法

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