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【发明公布】氧化物烧结体、溅射靶及氧化物薄膜_三井金属矿业株式会社_201880079685.X 

申请/专利权人:三井金属矿业株式会社

申请日:2018-12-27

公开(公告)日:2020-07-24

公开(公告)号:CN111448336A

主分类号:C23C14/34(20060101)

分类号:C23C14/34(20060101);C04B35/01(20060101);C23C14/08(20060101);H01L21/363(20060101);H01L29/786(20060101)

优先权:["20171228 JP PCT/JP2017/047375","20181016 JP PCT/JP2018/038546"]

专利状态码:有效-授权

法律状态:2022.03.01#授权;2020.10.27#实质审查的生效;2020.07.24#公开

摘要:实施方式的一个方案的氧化物烧结体是包含铟In、镓Ga、锌Zn、锡Sn、铝Al、氧O和不可避免的杂质的氧化物烧结体,各元素的原子比满足下述式1~4。0.70≤In+Zn+SnIn+Ga+Zn+Sn+Al≤0.981;0.01≤GaIn+Ga+Zn+Sn+Al≤0.292;0.01≤AlIn+Ga+Zn+Sn+Al≤0.103;0.50InIn+Ga+Zn+Al≤0.904。

主权项:1.一种氧化物烧结体,其是包含铟In、镓Ga、锌Zn、锡Sn、铝Al、氧O和不可避免的杂质的氧化物烧结体,其中,各元素的原子比满足下述式1~4,0.70≤In+Zn+SnIn+Ga+Zn+Sn+Al≤0.9810.01≤GaIn+Ga+Zn+Sn+Al≤0.2920.01≤AlIn+Ga+Zn+Sn+Al≤0.1030.50InIn+Ga+Zn+Al≤0.904。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 三井金属矿业株式会社 氧化物烧结体、溅射靶及氧化物薄膜

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