申请/专利权人：深圳市思坦科技有限公司

申请日：2019-12-03

公开（公告）日：2020-07-24

公开（公告）号：CN211086916U

主分类号：G03F7/16(20060101)

分类号：G03F7/16(20060101)

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2020.07.24#授权

摘要：本实用新型公开了一种涂胶设备，涂胶设备包括：可转动的真空吸盘，所述真空吸盘用于放置所述晶圆。喷淋头，位于所述真空吸盘的上方，所述喷淋头上设置有多个喷洒孔，所述多个喷洒孔用于向真空吸盘的方向喷洒光刻胶。本实用新型的技术方案，可以使光刻胶可以更加均匀的喷洒在晶圆上，由于光刻胶在喷涂时就喷涂的比较均匀，在悬涂时还可以相对降低悬涂时的转速，可以减少光刻胶在悬涂时的浪费，解决了悬涂时光刻胶用量大易浪费的问题，达到了节约光刻胶的目的。

主权项：1.一种涂胶设备，其特征在于，包括：可转动的真空吸盘，所述真空吸盘用于放置晶圆；喷淋头，位于所述真空吸盘的上方，所述喷淋头上设置有多个喷洒孔，所述多个喷洒孔用于向真空吸盘的方向喷洒光刻胶。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 深圳市思坦科技有限公司 涂胶设备

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