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【发明公布】LNO材料单晶层的制造方法和外延生长LNO材料单晶层的衬底_索泰克公司_201980021529.2 

申请/专利权人:索泰克公司

申请日:2019-03-26

公开(公告)日:2020-11-06

公开(公告)号:CN111902572A

主分类号:C30B23/02(20060101)

分类号:C30B23/02(20060101);C30B25/18(20060101);C30B29/30(20060101);C30B33/06(20060101);H01L21/762(20060101)

优先权:["20180328 FR 1800256"]

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2021.02.23#实质审查的生效;2020.11.06#公开

摘要:一种用于生产LNO材料的单晶层的方法,其包括将YSZ材料的单晶晶种层转移到硅材料的载体衬底,随后外延生长所述LNO材料的单晶层。

主权项:1.一种用于生产LNO材料的单晶层300,300',3001,3002,3003的方法,其包括将YSZ材料的单晶晶种层200,200',2000'转移到硅材料的载体衬底100,100',100",随后外延生长所述LNO材料的单晶层300,300',3001,3002,3003。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 索泰克公司 LNO材料单晶层的制造方法和外延生长LNO材料单晶层的衬底

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