申请/专利权人:ASML荷兰有限公司
申请日:2019-03-21
公开(公告)日:2020-11-27
公开(公告)号:CN112005170A
主分类号:G03F7/20(20060101)
分类号:G03F7/20(20060101)
优先权:["20180413 EP 18167216.3"]
专利状态码:有效-授权
法律状态:2023.07.11#授权;2020.12.15#实质审查的生效;2020.11.27#公开
摘要:公开了一种减轻结构的测量上的过程相关杂散光伪影的方法。该方法包括基于参考角分辨测量和目标角分辨测量来获得针对过程相关杂散光伪影的校准标度因子,以及利用所获得的校准标度因子来对图像进行校正。
主权项:1.一种减轻结构的测量上的过程相关杂散光伪影的方法,所述方法包括基于参考角分辨测量和目标角分辨测量来获得针对所述过程相关杂散光伪影的校准标度因子。
全文数据:
权利要求:
百度查询: ASML荷兰有限公司 计量方法和设备
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