申请/专利权人：安赛乐米塔尔公司

申请日：2019-06-11

公开（公告）日：2021-02-23

公开（公告）号：CN112400034A

主分类号：C23C14/24(20060101)

分类号：C23C14/24(20060101);C23C14/16(20060101);C23C14/56(20060101)

优先权：["20180615 IB PCT/IB2018/054419"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2021.03.12#实质审查的生效;2021.02.23#公开

摘要：本发明涉及用于在移动的基底S上连续沉积由金属或金属合金形成的涂层的真空沉积设备1，所述设备包括：蒸发坩埚4，所述蒸发坩埚4适合于供给金属或金属合金蒸气并且包括蒸发管7；沉积室2，所述沉积室2适合于使基底S沿着给定路径P移动通过；和蒸气喷射涂覆机3，所述蒸气喷射涂覆机3将蒸发管与沉积室连接，其中所述蒸气喷射涂覆机还包括再分配室31和蒸气排放孔32，所述再分配室31包括定位在所述再分配室内的至少一个再加热装置33，所述蒸气排放孔32包括底部开口，所述底部开口将蒸气排放孔与再分配室连接；顶部开口，经由所述顶部开口，蒸气可以在沉积室中离开；和两个侧面，所述两个侧面在顶部开口的方向上朝向彼此会聚。

主权项：1.一种用于在移动的基底S上连续沉积由金属或金属合金形成的涂层的真空沉积设备1，所述设备包括：-蒸发坩埚4，所述蒸发坩埚4适合于供给金属或金属合金蒸气并且包括蒸发管7，-沉积室2，所述沉积室2适合于使所述基底S沿着给定路径P移动通过，和-蒸气喷射涂覆机3，所述蒸气喷射涂覆机3将所述蒸发管与所述沉积室连接，其中所述蒸气喷射涂覆机还包括：-再分配室31，所述再分配室31从所述蒸发管横向地延伸并且横跨所述给定路径的宽度并且包括定位在所述再分配室内的至少一个再加热装置33，以及-蒸气排放孔32，所述蒸气排放孔32包括底部开口9，所述底部开口9将所述蒸气排放孔与所述再分配室连接；顶部开口10，经由所述顶部开口10，所述蒸气能够在所述沉积室中离开；和两个侧面11、12，所述两个侧面11、12将所述底部开口与所述顶部开口连接，其中所述蒸气排放孔的所述侧面在所述顶部开口的方向上朝向彼此会聚。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 安赛乐米塔尔公司 真空沉积设备和用于涂覆基底的方法

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