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【发明授权】真空腔污染颗粒的清除装置和方法_上海华力集成电路制造有限公司_201910777149.3 

申请/专利权人:上海华力集成电路制造有限公司

申请日:2019-08-22

公开(公告)日:2021-04-13

公开(公告)号:CN110496825B

主分类号:B08B5/04(20060101)

分类号:B08B5/04(20060101);H01J37/02(20060101);H01J37/30(20060101)

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2021.04.13#授权;2019.12.20#实质审查的生效;2019.11.26#公开

摘要:本发明公开了一种真空腔污染颗粒的清除装置,包括:真空腔,通过真空管路和真空泵相连;在真空管路上设置有隔离阀;手阀的第一端连接在真空腔上且和真空腔的内部连通;手阀的第二端供吸尘器连接;在真空腔进行工作时,隔离阀打开,手阀关闭;当真空腔进行污染颗粒清除时,隔离阀关闭,手阀打开,手阀的第二端和第一端连通,吸尘器连接到手阀的第二端上并实现对真空腔内的污染颗粒进行清除。本发明还公开了一种真空腔污染颗粒的清除方法。本发明能实现不开腔对真空腔进行污染颗粒清除,能消除颗粒对产品产生影响,能提高生产设备的运行时间,提高生产效率并降低人力消耗。

主权项:1.一种真空腔污染颗粒的清除装置,其特征在于,包括:真空腔,通过真空管路和真空泵相连;在所述真空管路上设置有隔离阀;手阀的第一端连接在所述真空腔上且和所述真空腔的内部连通;所述手阀的第二端供吸尘器连接;在所述真空腔进行工作时,所述隔离阀打开,所述手阀关闭;所述真空腔为离子注入机的离子束腔体;所述离子束腔体的各组成部分的管壁由石墨组成;所述污染颗粒的来源为离子束对所述离子束腔体的石墨材料的损耗;所述离子注入机采用下沉式结构,所述污染颗粒会在所述离子束腔体中产生堆积;当所述真空腔进行污染颗粒清除时,所述隔离阀关闭,所述手阀打开,所述手阀的第二端和第一端连通,所述吸尘器连接到所述手阀的第二端上并实现对所述真空腔内的堆积的污染颗粒进行清除。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 上海华力集成电路制造有限公司 真空腔污染颗粒的清除装置和方法

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