申请/专利权人：ams传感器新加坡私人有限公司

申请日：2019-09-13

公开（公告）日：2021-04-27

公开（公告）号：CN112714692A

主分类号：B29D11/00(20060101)

分类号：B29D11/00(20060101);F21V8/00(20060101)

优先权：["20180917 US 62/732,291"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.08.11#授权;2021.10.01#实质审查的生效;2021.04.27#公开

摘要：制造光导元件包括使用复制技术形成光导元件的第一部分104，以及使用光刻技术形成光导元件的第二部分106。使用复制可以促进形成更复杂形状的光学元件作为光导元件的一部分。复制工艺有时会导致形成“庭院”，或过量的复制材料，如果不将其消除或平滑，则其可能会导致光泄漏。在一些情况下，庭院部分的至少一部分嵌入光导元件的第二部分内，从而导致庭院部分的平滑。

主权项：1.一种制作光导元件的方法，该方法包括:通过复制工艺形成所述光导元件的第一部分；和通过光刻工艺形成所述光导元件的第二部分。

全文数据：

权利要求：

百度查询： ams传感器新加坡私人有限公司 光学光导和制作光学光导的方法

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