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【发明公布】高密闭清洗机构_浙江迦南科技股份有限公司_202011559071.7 

申请/专利权人:浙江迦南科技股份有限公司

申请日:2020-12-25

公开(公告)日:2021-05-07

公开(公告)号:CN112756359A

主分类号:B08B9/34(20060101)

分类号:B08B9/34(20060101);B08B13/00(20060101)

优先权:

专利状态码:失效-发明专利申请公布后的驳回

法律状态:2024.03.01#发明专利申请公布后的驳回;2021.05.25#实质审查的生效;2021.05.07#公开

摘要:本发明公开了一种高密闭清洗机构,包括箱体,箱体内开设有供待清洗料斗放置的容腔,容腔内设置有用于封闭住待清洗料斗料斗顶部开口处的第一高密闭无菌分体阀,第一高密闭无菌分体阀分为用于安装在待清洗料斗顶部开口处实现待清洗料斗内部密封的第一被动阀和用于与第一被动阀进行对接的第一主动阀,容腔内设置有用于驱动第一主动阀使其与第一被动阀对接或脱离的驱动装置,容腔内还设置有用于穿过第一主动阀和第一被动阀后对料斗内部进行清洗的清洗装置,容腔内设置有用于定位待清洗料斗位置以及封闭待清洗料斗底部开口的定位装置。本发明解决了现有技术中料斗在清洗过程中料斗开口呈常开状态导致料斗内部物质泄露到空气中的问题。

主权项:1.一种高密闭清洗机构,其特征在于:包括箱体,所述箱体内开设有供待清洗料斗放置的容腔,所述容腔内设置有用于封闭住待清洗料斗顶部开口处的第一高密闭无菌分体阀,所述第一高密闭无菌分体阀分为用于安装在待清洗料斗顶部开口处实现待清洗料斗内部密封的第一被动阀和用于与第一被动阀进行对接的第一主动阀,所述容腔内设置有用于驱动第一主动阀使其与第一被动阀对接或脱离的驱动装置,所述容腔内还设置有用于穿过第一主动阀和第一被动阀后对料斗内部进行清洗的清洗装置,所述容腔内设置有用于定位待清洗料斗位置以及封闭待清洗料斗底部开口的定位装置。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 浙江迦南科技股份有限公司 高密闭清洗机构

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