申请/专利权人：辽宁卓越真空设备有限公司;辽宁荣耀科技有限公司

申请日：2022-05-27

公开（公告）日：2022-09-23

公开（公告）号：CN217479540U

主分类号：C23C14/32

分类号：C23C14/32

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2022.09.23#授权

摘要：本申请涉及真空镀膜技术领域，尤其是涉及一种弧源及多弧离子镀膜机，弧源包括：绝缘围挡，形成有容纳空间；磁场组件，设置于容纳空间内，磁场组件在容纳空间形成综合磁场；弧靶，设置于磁场组件的一侧；调距装置，设置于容纳空间内，调距装置与磁场组件连接，调距装置驱动磁场组件相对弧靶运动。本申请提供的弧源，通过调距装置能够调节多个磁构件中的部分磁构件与弧靶之间的距离，从而使得弧源内的综合磁场的分布情况以及与弧靶之间的距离可调，从而有助于提高进行真空镀膜后的密层质量。

主权项：1.一种弧源，其特征在于，包括：绝缘围挡，形成有容纳空间；磁场组件，设置于所述容纳空间内，所述磁场组件在所述容纳空间形成综合磁场；弧靶，设置于所述磁场组件的一侧；调距装置，设置于所述容纳空间内，所述调距装置与所述磁场组件连接，所述调距装置驱动所述磁场组件相对所述弧靶运动。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 辽宁卓越真空设备有限公司;辽宁荣耀科技有限公司 弧源及多弧离子镀膜机

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