申请/专利权人：深圳市技高美纳米科技有限公司

申请日：2022-07-21

公开（公告）日：2022-12-23

公开（公告）号：CN218115589U

主分类号：C23C16/54

分类号：C23C16/54;C23C16/509

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2022.12.23#授权

摘要：本实用新型适用于防水处理设备技术领域，提供了一种用于卷材镀膜的PEVCD设备。舱体、加药装置以及真空泵，所述加药装置通过管道与所述舱体的顶部和底部相连，所述真空泵与所述舱体通过管道相连通，还包括设置于舱体内部的等离子射频结构，所述舱体内部设置有可转动的放卷辊、多个张紧辊和收卷辊。本实用新型提供的用于卷材镀膜的PEVCD设备的舱体内设置有放卷辊、多个张紧辊和收卷辊，工作时，可使卷材绕于各辊上而充分地展开，如此可使等离子体均匀沉积于卷材上而镀膜，从而解决了现有的设备对于卷材进行等离子处理时往往存在等离子体均匀性差，处理效果差，处理效率低的问题。

主权项：1.一种用于卷材镀膜的PEVCD设备，其特征在于，包括舱体1、加药装置2以及真空泵3，所述加药装置2通过管道与所述舱体1的顶部和底部相连，所述真空泵3与所述舱体1通过管道相连通，还包括设置于舱体1内部的等离子射频结构4，所述舱体1内部设置有可转动的放卷辊5、多个张紧辊6和收卷辊7。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 深圳市技高美纳米科技有限公司 一种用于卷材镀膜的PEVCD设备

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