申请/专利权人:京东方科技集团股份有限公司
申请日:2021-03-12
公开(公告)日:2023-01-13
公开(公告)号:CN115605743A
主分类号:G01N21/64
分类号:G01N21/64;C12M1/34
优先权:
专利状态码:在审-实质审查的生效
法律状态:2023.02.07#实质审查的生效;2023.01.13#公开
摘要:一种阵列基板、微流控装置、微流控系统以及荧光检测方法。阵列基板(100)包括至少一个凹陷部(103),其中,阵列基板位于一平面内,至少一个凹陷部在平面上的正投影的面积与阵列基板在平面上的正投影的面积的比值介于0.05至0.60之间。该面积比可以使阵列基板具有恰当数量和恰当腔室容积的凹陷部。
主权项:一种阵列基板,包括至少一个凹陷部,其中,所述阵列基板位于一平面内,所述至少一个凹陷部在所述平面上的正投影的面积与所述阵列基板在所述平面上的正投影的面积的比值介于0.05至0.60之间。
全文数据:
权利要求:
百度查询: 京东方科技集团股份有限公司 阵列基板、微流控装置、微流控系统、荧光检测方法
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