申请/专利权人：华海清科股份有限公司

申请日：2022-12-01

公开（公告）日：2023-03-21

公开（公告）号：CN115816288A

主分类号：B24B37/10

分类号：B24B37/10;B24B37/34;B24B27/00;H01L21/67

优先权：

专利状态码：在审-公开

法律状态：2023.03.21#公开

摘要：本发明公开了一种化学机械抛光系统和抛光方法，所述化学机械抛光系统包括：前置单元；抛光单元；清洗单元，设置于前置单元与抛光单元之间；所述抛光单元包括多个抛光模块和晶圆传输机构，所述抛光模块围绕所述晶圆传输机构设置，所述晶圆传输机构能够在相邻抛光模块之间传输晶圆；所述抛光模块包括抛光盘、抛光组件和装卸台，所述装卸台设置于抛光盘的外侧，所述抛光组件设置于抛光盘和装卸台的上侧；所述抛光组件包括支撑架和悬挂于支撑架下方的承载头，所述支撑架旋转，以带动承载头装载的晶圆在装卸台与抛光盘之间移动。

主权项：1.一种化学机械抛光系统，其特征在于，包括：前置单元；抛光单元；清洗单元，设置于前置单元与抛光单元之间；所述抛光单元包括多个抛光模块和晶圆传输机构，所述抛光模块围绕所述晶圆传输机构设置，所述晶圆传输机构能够在相邻抛光模块之间传输晶圆；所述抛光模块包括抛光盘、抛光组件和装卸台，所述装卸台设置于抛光盘的外侧，所述抛光组件设置于抛光盘和装卸台的上侧；所述抛光组件包括支撑架和悬挂于支撑架下方的承载头，所述支撑架旋转，以带动承载头装载的晶圆在装卸台与抛光盘之间移动。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 华海清科股份有限公司 一种化学机械抛光系统和抛光方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息，力求客观、公正，但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解，仅供参考使用，不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。

阅读全文 双屏查看 官方信息 专利公告 收藏专利 下载PDF 下载WORD