申请/专利权人：武汉格智新材料有限公司

申请日：2021-11-30

公开（公告）日：2023-04-28

公开（公告）号：CN114351197B

主分类号：C25D5/54

分类号：C25D5/54;H05K3/42

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.04.28#授权;2022.05.03#实质审查的生效;2022.04.15#公开

摘要：本发明提供一种石墨暗影金属化助剂及其制备方法和应用，该石墨暗影金属化助剂经微纳米级石墨、增稠剂、特定类型的成膜剂、特定类型的乳化剂、酸碱调节剂、杀菌剂、有机溶剂和水以特定比例复配，整体具有高粒径稳定性。采用本发明石墨暗影金属化助剂能够满足线路板品质要求。

主权项：1.一种石墨暗影金属化助剂，其特征在于，主要由如下重量百分比的各原料经混合制备而成pH为9.6~10.8的悬浮液：微米级石墨3%~10%，增稠剂0.1%~2%，成膜剂0.1%~2%，乳化剂2%~7%，碱性调节剂0.5%~2%，杀菌剂0.05%~1.5%，有机溶剂2%~10%，以及水余量；其中，所述成膜剂选自丙二醇苯醚、十二碳醇酯、苯甲醇、乙二醇丁醚、丙二醇甲醚、丙二醇乙醚、丙二醇丁醚中的至少一种，所述有机溶剂选自乙二醇单丁醚、二乙二醇单丁醚、三乙二醇单丁醚中的至少一种，所述增稠剂选自甲基纤维素、羟乙基纤维素、羟丙基甲基纤维素、羧甲基纤维素钠、聚乙烯醇、聚丙烯酸钠、海藻酸钠、聚丙烯酰胺、聚乙烯吡咯烷酮、聚氧化乙烯、卡波树脂、聚丙烯酸中至少一种，所述乳化剂选自阴离子型表面活性剂或者非离子型表面活性剂，所述阴离子型表面活性剂选自硫酸酯盐型阴离子型表面活性剂、磺酸盐型阴离子型表面活性剂、羧酸盐型阴离子型表面活性剂中的至少一种，所述非离子型表面活性剂选自脂肪醇聚氧乙烯醚、烷基酚聚氧乙烯醚、脂肪酸聚氧乙烯酯、蓖麻油聚氧乙烯醚中的至少一种，所述碱性调节剂选自碳酸钾、碳酸钠、碳酸氢钠、碳酸氢钾、氨水、乙醇胺中的至少一种，所述杀菌剂选自均三嗪、异噻唑啉酮类杀菌剂中的至少一种；所述微米级石墨的制备工艺包括如下步骤：将土状石墨或者鳞片石墨采用高能球磨机进行研磨处理，得到粒径不大于5μm的微米级石墨。

全文数据：

权利要求：

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