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【发明公布】一种提高E-fuse烧写成功率的烧写方法及系统_西安矽源半导体有限公司_202310404649.9 

申请/专利权人:西安矽源半导体有限公司

申请日:2023-04-14

公开(公告)日:2023-07-18

公开(公告)号:CN116450160A

主分类号:G06F8/61

分类号:G06F8/61

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2023.08.04#实质审查的生效;2023.07.18#公开

摘要:本发明涉及集成电路设计技术领域,具体涉及一种提高E‑fuse烧写成功率的烧写方法及系统,通过对烧写信息的计算,得到烧写信息中待熔断E‑fuse的数量,并得到待熔断E‑fuse在烧写信息中的位置,按照烧写信息中每一位是否存在待熔断E‑fuse来设定烧写控制信息,使每一个烧写控制信息中存在一个待熔断E‑fuse,随后依次将烧写控制信息输入E‑fuse阵列中,使与待熔断E‑fuse对应的E‑fuse熔断,从而在接收到一个烧写控制信息时完成一个E‑fuse的烧写,从而使单次的烧写电流较低,保证烧写电流电压稳定,降低烧写难度,提高烧写稳定可靠性,避免漏烧或者熔断不彻底的问题,提高烧写成功率。

主权项:1.一种提高E-fuse烧写成功率的烧写方法,其特征在于,包括以下步骤:S1、采集烧写信息,计算烧写信息中待熔断E-fuse的数量;S2、遍历烧写信息,确定每一个待熔断E-fuse在烧写信息中的位置,得到每一个待熔断E-fuse的位置信息;S3、根据当前烧写信息中待熔断E-fuse的数量和烧写信息中每一个待熔断E-fuse的位置信息,得到多个含有一个待熔断E-fuse的烧写控制信息,所述烧写控制信息的数量与烧写信息中待熔断E-fuse的数量相等,每一个烧写控制信息中待熔断E-fuse的位置与烧写信息中每一个待熔断E-fuse的位置一一对应,将所有烧写控制信息打包得到烧写控制集;S4、将烧写控制信息集中的烧写控制信息依次发送给E-fuse阵列,完成对应E-fuse的烧写;所述E-fuse阵列包括依次排列的多个E-fuse。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 西安矽源半导体有限公司 一种提高E-fuse烧写成功率的烧写方法及系统

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