申请/专利权人：瑞红(苏州)电子化学品股份有限公司

申请日：2023-06-26

公开（公告）日：2023-09-05

公开（公告）号：CN116693755A

主分类号：C08F222/06

分类号：C08F222/06;G03F7/004;C08F232/08;C08F234/02

优先权：

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2023.09.22#实质审查的生效;2023.09.05#公开

摘要：本申请涉及光刻胶技术领域，具体公开了ArF光刻胶成膜聚合物及其制备方法及用该聚合物制得的光刻胶及其应用。ArF光刻胶成膜聚合物，包括如下比例的各组分：降冰片烯新单体5‑20mol%；马来酸酐单体45‑55mol%；侧链含有保护基团的降冰片烯单体20‑40mol%。ArF光刻胶成膜聚合物的制备方法包括：溶解、加热反应、纯化、烘干等步骤。光刻胶包括如下各组分：ArF光刻胶成膜聚合物、光致产酸剂、碱性添加剂、第三溶剂。本申请的光刻胶具有良好的粘附性和耐蚀刻性能。

主权项：1.ArF光刻胶成膜聚合物，其特征在于：包括如下比例的各组分：降冰片烯新单体5-20mol％；马来酸酐单体45-55mol％；侧链含有保护基团的降冰片烯单体20-40mol％；所述降冰片烯新单体结构通式如下： 其中R1为烷基链，X为含有羟基和腈基的烷基，Y为亚甲基或氧原子。

全文数据：

权利要求：

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