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【发明公布】关于外延后背封pattern解决办法_浙江丽水中欣晶圆半导体科技有限公司_202310681966.5 

申请/专利权人:浙江丽水中欣晶圆半导体科技有限公司

申请日:2023-06-09

公开(公告)日:2023-10-27

公开(公告)号:CN116949567A

主分类号:C30B25/16

分类号:C30B25/16;H01L21/02

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2023.11.14#实质审查的生效;2023.10.27#公开

摘要:本发明涉及一种关于外延后背封pattern解决办法,所属硅片加工技术领域,包括如下操作步骤:第一步:外延时由于高温环境下外延片会产生一定的形变,在外延片加上一层背封后形变会更加明显。第二步:将外延片从反应腔里取出时,需要由三枚顶针从基座底部升起,并将外延片从基座上托起,再通过后端机械手臂将外延片从反应腔中取出;形变较大的情况下外延片背面会与手臂接触,并因为背封的质地问题留下手臂印记。第三步:外延片经过外延的高温后会产生形变,但降温后形变会在一定程度上有所恢复。具有操作便捷和质量稳定性好的特点。消除背封因质地产生的机械手臂pattern,提高外延良率。

主权项:1.一种关于外延后背封pattern解决办法,其特征在于包括如下操作步骤:第一步:外延时由于高温环境下外延片会产生一定的形变,在外延片加上一层背封后形变会更加明显;第二步:将外延片从反应腔里取出时,需要由三枚顶针从基座底部升起,并将外延片从基座上托起,再通过后端机械手臂将外延片从反应腔中取出;形变较大的情况下外延片背面会与手臂接触,并因为背封的质地问题留下手臂印记;第三步:外延片经过外延的高温后会产生形变,但降温后形变会在一定程度上有所恢复。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 浙江丽水中欣晶圆半导体科技有限公司 关于外延后背封pattern解决办法

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