申请/专利权人：华为技术有限公司

申请日：2020-11-28

公开（公告）日：2023-11-03

公开（公告）号：CN114584636B

主分类号：H04M1/02

分类号：H04M1/02;H04N23/55;H04N23/57;H04N25/617

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2023.11.03#授权;2022.06.21#实质审查的生效;2022.06.03#公开

摘要：本申请提供了摄像头模组200、马达模组202、SMA马达205、电子设备100。摄像头模组200包括：SMA马达205、透镜阵列2022、多个隔磁件、图像传感器207。SMA马达205用于移动透镜阵列2022；隔磁件位于SMA马达205与图像传感器207之间。本申请提供的方案有利于减小摄像头模组200内磁敏感电子器件所受到的磁干扰的程度。

主权项：1.一种形状记忆合金SMA马达205，其特征在于，所述SMA马达205应用于拍摄装置，所述拍摄装置包括透镜阵列2022、图像传感器207和SMA马达驱动模块，所述SMA马达驱动模块用于为所述SMA马达205提供交流电源，所述SMA马达驱动模块包括第一电连接端口、第二电连接端口，所述SMA马达205包括：SMA线，所述SMA线的一端用于与所述透镜阵列2022相连，另一端相对于所述拍摄装置固定，所述SMA线的两端用于分别与所述第一电连接端口、所述第二电连接端口电连接；第一隔磁件620，所述第一隔磁件620相对于所述拍摄装置的光轴垂直设置，所述第一隔磁件620包括第一通孔6211，入射至所述拍摄装置的光在穿过所述第一通孔6211后入射至图像传感器207，所述第一通孔6211的形状与所述图像传感器207的形状对应；所述SMA马达205还包括：第二隔磁件610，所述第二隔磁件610相对于所述拍摄装置的光轴垂直设置，所述第二隔磁件610位于所述SMA线与所述第一隔磁件620之间，所述第二隔磁件610包括第二通孔6111，所述第二通孔6111用于穿过所述透镜阵列2022。

全文数据：

权利要求：

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