申请/专利权人：艾瓦公司

申请日：2022-03-24

公开（公告）日：2024-01-02

公开（公告）号：CN117337401A

主分类号：G01S7/48

分类号：G01S7/48

优先权：["20210324 US 63/165,601","20220323 US 17/702,595"]

专利状态码：在审-实质审查的生效

法律状态：2024.01.16#实质审查的生效;2024.01.02#公开

摘要：一种光检测和测距LIDAR系统，用于向LIDAR系统的视场中的目标发射包括至少一个上啁啾频率和至少一个下啁啾频率的光束，并接收从目标反射的上啁啾和下啁啾的返回信号。LIDAR系统可对一个或多个返回信号执行IQ处理，以便在至少一个所述上啁啾和至少一个所述下啁啾期间在返回信号的频域中生成基带信号。基带信号包括与所述至少一个上啁啾频率相关的第一组峰值和与所述至少一个下啁啾频率相关的第二组峰值。LIDAR系统利用第一组峰值和第二组峰值确定目标位置。

主权项：1.一种方法，包括：向光检测和测距LIDAR系统的视场中的目标发射一个或多个光束，所述一个或多个光束包括至少一个上啁啾频率和至少一个下啁啾频率；从所述目标接收基于所述一个或多个光束的一组返回信号；确定与所述目标相关的峰值是否在一组或多组频率范围内，所述一组或多组频率范围包括与准确计算所述目标的位置或速率的较低可能性相对应的信号属性值；如果与所述目标相关的所述峰值在所述一组或多组频率范围内，则对一个或多个所接收的信号执行同相正交相位IQ处理，其中，所述IQ处理降低与所述目标相关的所述峰值中一个或多个峰值的一个或多个幅值；以及利用与所述目标相关的所述峰值确定目标位置、目标速度和目标反射率中的一者或多者。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 艾瓦公司 利用同相/正交相位(IQ)处理的用于减轻相干LIDAR系统中的重影的技术

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