申请/专利权人：中环领先半导体材料有限公司

申请日：2021-12-03

公开（公告）日：2024-01-09

公开（公告）号：CN114241619B

主分类号：G07C3/00

分类号：G07C3/00;B24B49/00;G01D21/02

优先权：

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.01.09#授权;2022.04.12#实质审查的生效;2022.03.25#公开

摘要：本发明公开了一种抛光面型修正中心加压自动计算的方法，其自动计算方法包括以下步骤：S1、首先上料通过面型数据采集模块进行实时测量硅片内外厚度数据，并且通过无线传输模块将采集的测量数据传输给面型数据转换模块进行实时转换，在这传输至数据计算监控模块进行实时储存，本发明采用自动采集、计算、监控、修改模式，生产过程设备自动采集和测量数据，根据数据自动生成中心加压值，数据具有逻辑性，可控及稳定，使生产的产品面型数据稳定可控，生产过程设备自动运行，大大减少了人员操作，大大降低人员作业强度，大大减少人对产品的影响，设备能自动记录加工过程中的各项数据参数，增强后期产品过程的可追溯性。

主权项：1.一种抛光面型修正中心加压自动计算的方法，其特征在于：其自动计算方法包括以下步骤：S1、首先上料通过面型数据采集模块进行实时测量硅片内外厚度数据，并且通过无线传输模块将采集的测量数据传输给面型数据转换模块进行实时转换，在这传输至数据计算监控模块进行实时储存，同时通过液位传感器、温度传感器和计时器对抛光液的使用情况数据进行实时监测，通过抛光液使用数据收集装置进行实时记录；S2、然后通过抛光垫检测传感器、温度传感器、计时器、清洗计时器和清洗次数检测器对抛光垫的使用数据和清洗数据进行实时监测，并且通过抛光垫使用收集装置进行实时采集，并且将如抛光液、抛光垫等参数的数据收集传输到数据计算监控模块；S3、最后通过数据计算执行模块接受存储的各项数据计算需修改的中心加压值，通过数据显示监控模块显示在用户显示界面上，并发送给执行机构，执行机构根据接受的中心加压值修改，修改中心加压值后执行抛光作业，抛光完成后进行复测面型修正值。

全文数据：

权利要求：

百度查询： 中环领先半导体材料有限公司 一种抛光面型修正中心加压自动计算的方法

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