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【发明公布】一种应用FDTD中非均匀网格的二阶精确插值方法_上海慕灿信息科技有限公司_202311390132.5 

申请/专利权人:上海慕灿信息科技有限公司

申请日:2023-10-24

公开(公告)日:2024-01-19

公开(公告)号:CN117421955A

主分类号:G06F30/23

分类号:G06F30/23

优先权:

专利状态码:在审-实质审查的生效

法律状态:2024.02.06#实质审查的生效;2024.01.19#公开

摘要:本发明公开了一种应用FDTD中非均匀网格的二阶精确插值方法,包括以下步骤:步骤1:构建一个由两个区域组成的计算域,单元格的大小在界面处从Δ变为ΔR=Δ',边界作为区域之间的接口;步骤2:构建第二个域,其中网格大小从Δ到ΔR=Δ”变化;步骤3:建立互补导数算法,并使用二阶精确插值方法确定网格尺寸的缩减因子。在基于FDTD的方法中使用非均匀网格时实现二阶精度,此外,CDM可以实现广泛的网格尺寸缩减因子,从而允许比以前更大的网格尺寸灵活性。理论讨论和数值模拟表明,CDM消除了一阶网格界面反射误差。鉴于高介电常数和高磁导率材料的使用越来越多,预计CDM将对此类材料的建模产生强烈影响。

主权项:1.一种应用FDTD中非均匀网格的二阶精确插值方法,其特征在于,包括以下步骤:步骤1:构建一个由两个区域组成的计算域,单元格的大小在界面处从Δ变为ΔR=Δ',边界作为区域之间的接口;步骤2:构建第二个域,其中网格大小从Δ到ΔR=Δ”变化;步骤3:建立互补导数算法,并使用二阶精确插值方法确定网格尺寸的缩减因子。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 上海慕灿信息科技有限公司 一种应用FDTD中非均匀网格的二阶精确插值方法

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