买专利,只认龙图腾
首页 专利交易 科技果 科技人才 科技服务 商标交易 会员权益 IP管家助手 需求市场 关于龙图腾
 /  免费注册
到顶部 到底部
清空 搜索

【发明授权】一种清香型抛光液组合物的制备方法_无锡市恒利弘实业有限公司_202211442202.2 

申请/专利权人:无锡市恒利弘实业有限公司

申请日:2022-11-18

公开(公告)日:2024-02-27

公开(公告)号:CN115725239B

主分类号:C09G1/02

分类号:C09G1/02

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.02.27#授权;2023.03.21#实质审查的生效;2023.03.03#公开

摘要:本发明提供了一种清香型抛光液组合物的制备方法,所述抛光液由硅溶胶研磨介质、络合剂、表面活性剂、pH调节剂、香精和去离子水组成,其中络合剂选自对‑羟基苯‑β‑D‑吡喃葡萄糖苷,抛光液具更高的材料去除率和更低的表面粗糙度,获得的抛光材料表面光滑,无划伤,且表面抛光介质残留率低,抛光后处理方便,抛光液组合物具有柠檬气味。

主权项:1.一种清香型抛光液组合物的制备方法,其特征在于包括如下步骤:(1)将颗粒的尺寸集中在20-30nm的硅溶胶研磨介质分散在适量的去离子水中,在搅拌过中加入羟乙基乙二胺,以100-150rpm的速度,常温搅拌10-15min,形成稳定悬浮液;(2)向上述悬浮液中加入对-羟基苯-β-D-吡喃葡萄糖苷,30-35℃下以100-150rpm的速度搅拌2-3min后,补充含有柠檬精的余量常温去离子水;(3)使用二乙烯三胺pH调节剂调节溶液的pH值范围为10-11范围内,获得晶片清香型抛光液组合物;清香型抛光液组合物成分的质量百分比如下:10~25wt%硅溶胶研磨介质:氧化硅磨料介质颗粒的尺寸集中在20-30nm,D98≤40nm;2.5-2.8wt.%对-羟基苯-β-D-吡喃葡萄糖苷;0.5-0.7wt.%羟乙基乙二胺;0.01-0.05wt.%柠檬精香精;pH调节剂:二乙烯三胺,调节pH在10-11范围内;余量去离子水。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 无锡市恒利弘实业有限公司 一种清香型抛光液组合物的制备方法

免责声明
1、本报告根据公开、合法渠道获得相关数据和信息,力求客观、公正,但并不保证数据的最终完整性和准确性。
2、报告中的分析和结论仅反映本公司于发布本报告当日的职业理解,仅供参考使用,不能作为本公司承担任何法律责任的依据或者凭证。