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【发明授权】一种磁粉检测标准试片磁痕评估方法_西安热工研究院有限公司_202210753638.7 

申请/专利权人:西安热工研究院有限公司

申请日:2022-06-29

公开(公告)日:2024-02-27

公开(公告)号:CN115100154B

主分类号:G06T7/00

分类号:G06T7/00;G06T7/11;G06T7/136;G06T7/194

优先权:

专利状态码:有效-授权

法律状态:2024.02.27#授权;2022.10.14#实质审查的生效;2022.09.23#公开

摘要:本发明公开了一种磁粉检测标准试片磁痕评估方法,包括:对标准试片磁痕图像进行切片;统计所得图像中背景的平均灰度及灰度标准差;将所得图像中背景的平均灰度及灰度标准差作为辅助图中纯白色像素的坐标集合,通过辅助图获取背景掩膜及磁痕掩膜;对背景掩膜及磁痕掩膜内的背景像素进行直方图统计,对归一化后的直方图从像素值为0处开始进行面积积分,当积分值达到预设值时,则将此时直方图的灰度值作为二值化阈值;对磁痕掩膜内的像素点进行二值化;根据磁痕显示图像内的黑色像素点计算磁痕强度,并根据磁痕强度评估磁粉检测标准试片的磁痕清晰度,该方法能够实现标准试片磁痕显示的量化评估。

主权项:1.一种磁粉检测标准试片磁痕评估方法,其特征在于,包括以下步骤:1导入标准试片磁痕图像,重新设置标准试片磁痕图像的大小;2载入辅助图,对辅助图中不同颜色的点坐标进行统计;3选择感兴趣区ROI,对标准试片磁痕图像进行切片;4在步骤3得到的图像中选择图像上标准试片的四个角,并对输入的四个角坐标进行重新排序,以实现对试片的透射变换,并去除多余部分;5统计步骤4所得图像中背景的平均灰度及灰度标准差;6通过辅助图获取背景掩膜及磁痕掩膜;7对背景掩膜及磁痕掩膜内的背景像素进行直方图统计,并进行归一化;8对归一化后的直方图从像素值为0处开始进行面积积分,当积分值达到预设值时,则将此时直方图的灰度值作为二值化阈值;9通过步骤8中得到的二值化阈值对磁痕掩膜内的像素点进行二值化;10去除被记入磁痕显示的多余背景像素点;11根据磁痕显示图像内的黑色像素点计算磁痕强度,并根据磁痕强度评估磁粉检测标准试片的磁痕清晰度。

全文数据:

权利要求:

百度查询: 西安热工研究院有限公司 一种磁粉检测标准试片磁痕评估方法

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